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第277章 Arf光刻（第2页）
“它采用193纳米arf氟化氩准分子激光光源，可以将工艺制程推进到65纳米。”
“这一代光刻机已经基本满足大部分半导体电子产品的需求。”
“真正意义上的国产自主？”常乐确认一遍。
“对！这台设备的10万多个零部件，哪怕是一颗螺丝钉都是国内厂商提供……
“性能经过华红半导体验证，与ASML相差无几。”何融明斩钉截铁地。
“能够这么快自主研发成功，还是要归功于母公司的资金保障。”
“因为资金保障充分，配套企业的研发积极性非常高，供应的产品性能和关键指标不断提升，目前已基本达到国际一流水准。”
“核心组建方面，双工作台由华卓精科提供，光源由科益虹源提供，曝光系统由国科提供，国望光学供应了物镜系统，上光所供应了光栅系统……”
“配套设施方面，南大光电供应光刻胶，华特气体供应光刻气体，华润微供应光掩膜版，东方晶源供应缺陷检测系统，芯源微供应涂胶显影……”
何融明介绍的这些鼎鼎大名的企业，因为乐达投资的介入，较前世，已经提前数年成立并扬帆起航。
各类顶级研发工程师纷纷加盟，积极对接和自发成为沪微电子的上下游配套企业，接受其研发安排和调度。
钱能聚人心。
听完何融明的介绍，常乐不明觉厉，高兴地说：
“老何，辛苦了。”
“阶段性目标的实现，比我想象中要来得早一些……”
“我原来计划可能要10年左右才能突破。”
“正常情况下，是这样。”何融明说：
“老板，不瞒您说，我们原本也认为要花费较长一段时间。”
“只是，一年多以前成功研发krf准分子光刻机后，我们发现研发进度、研发效率在不断提升，试错成本一降再降。”
“尤其是，华卓精科的双工件台，据他们说，几乎每一步都踏在正确的轨道上。”
梁青松接着这个话题继续说：
“老板，华红的研发也很顺利。”
“接手沪微电子的光刻机后，在验证过程中，65纳米SOC芯片一次流片成功率高达90%……”
“节省了大量的研发时间和成本，让研发人员积极性大为提高。”
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听完介绍，常乐笑道：
“看来，老天爷都看不下去了，开始垂怜我们了，让我们尽量少走一些弯路。”
曾熙说：“这就是天道酬勤。”
在场的人都笑了起来。
何融明说：“是啊，天道酬勤。DUV光刻机研发成功，给足了我们信心。只要坚持不懈，就一定可以抹平代差。”
“我们与ASML光刻机的差距客观存在，但至少不是30年、40年这种令人绝望的差距。”
“我们希望能在10年内，基本抹平代差，平起平坐。”
梁青松说：“其实，我们也有优势，那就是沿着ASML的轨迹走。不用摸着石头过河，试错成本最大限度降到最低。”
常乐点头：“都说的很好。大家有这样的共识，就说明我们的认识一致、行动一致，我们走在一条正确的道路上。”
“伟人曾经说过，雄关漫道真如铁、而今迈步从头越。只要我们心往一处想，力往一处使，就一定能够取得成功。”
沪微电子食堂。
